Gibberellik asit'in fenton prosesleri ile gideriminin araştırılması


Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Uludağ Üniversitesi, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2013

Tezin Dili: Türkçe

Öğrenci: MECİT YILDIZ

Danışman: GÖKHAN EKREM ÜSTÜN

Özet:

Bu tez çalışmasında, bir çeşit bitki gelişim düzenleyici (BGD) olan Gibberellik asitin (GA3) ileri oksidasyon prosesleri (İOP) olan Fenton ve Foto-Fenton prosesleri ile giderimi araştırılmıştır. Fenton proseslerde, proses bağımsız değişkenlerin GA3 ayrışma ve mineralizasyon davranışı üzerindeki etkileri ve optimum proses koşulları konvansiyonel optimizasyon yöntemi ile belirlenmiştir. Foto-Fenton proseslerde, GA3'ün ayrışma ve mineralizasyon davranışı üzerinde artan UV-A ışık şiddeti etkisinin analitik olarak karşılaştırılabilir olması için Fenton prosesinde belirlenen optimum proses koşullarında çalışılmış, optimum UV-A ışık şiddeti konvansiyonel optimizasyon yöntemi ile belirlenmiştir. Bu çalışmada seçilen başlangıç Fe2+ ve H2O2 konsantrasyonları için, GA3'in ayrışma verimi ve TOK giderimi üzerinde en önemli etkiye başlangıç Fe2+ konsantrasyonunun sahip olduğu belirlenmiştir. Kullanılan UV-A ışık şiddeti miktarının GA3 ayrışma ve mineralizasyon verimi üzerinde önemli bir etkiye sahip olduğu belirlenmiştir.Fenton prosesinde en iyi giderim verimleri; pH=3, Fe2+=0,08 mM ve H2O2=1 mM dozlarında elde edilmiştir. Bu dozlardaki GA3 ve TOK giderimleri için elde edilen verimler sırasıyla; %60 ve %5 olarak belirlenmiştir. Foto-Fenton prosesinde elde edilen optimum UV-A ışık şiddeti ise 45x10-6 einstein/s olarak belirlenmiştir. Bu dozlardaki GA3 ve TOK giderim verimleri sırasıyla; %100 ve %16 olarak belirlenmiştir.Sonuç olarak Foto-Fenton proseslerinin GA3 pestisitinin ayrışmasında ve TOK gideriminde Fenton proseslerinden daha etkin olduğu belirlenmiştir.