Antibakteriyel uygulamalar için pamuk kumaşlarda atomik katman biriktirme ile ag nanoparçacıkların fotodepozisyonu

---

Tezin Türü: Yüksek Lisans

Tezin Yürütüldüğü Kurum: Bursa Uludağ Üniversitesi, FEN BİLİMLERİ ENSTİTÜSÜ, FEN BİLİMLERİ ENSTİTÜSÜ, Türkiye

Tezin Onay Tarihi: 2022

Tezin Dili: Türkçe

Öğrenci: BÜŞRA YILMAZ

Danışman: Halil İbrahim Akyıldız

Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu

Özet:

Bu çalışmada pamuk kumaş yüzeylerinde atomik katman biriktirme yöntemi ile ZnO ince filmler biriktirilmiştir. ZnO ince film ile kaplanan ve kaplama yapılmamış kumaş, cam ve quartz cam yüzeyler üzerinde güneş simülatörü altında fotodepozisyon yöntemi ile Ag nanoparçacıklar biriktirilmiş ve bu yüzeylerin antibakteriyel etkinlikleri incelenmiştir. Numunelerin optik özellikleri UV-Vis spektrofotometresi, yüzey morfolojileri FE-SEM, elemental analizleri ve kristal yapıları FT-IR ve XRD yöntemleri ile incelenmiştir. Antibakteriyel etkinlikleri kalitatif ve kantitatif olarak incelenmiştir. Yapılan antibakteriyel testler sonucunda ZnO+Ag ve Ag nanoparçacık kaplı kumaşlar üzerinde bakteri yoğunluğunun azaldığı görülmüştür. Ag NP'lerin bakteri ile temas ettiği anda hücresel metabolizmanın olumsuz etkilendiği sonucuna ulaşılmıştır. Anahtar Kelimeler: antibakteriyel, ALD (atomic layer deposition), gümüş, nanoparçacıklar, fotodepozisyon.